အထူ ၁ မိုက်ခရိုနအောက်ရှိ ရုပ်ရှင်များကို CVD၊ ALD သို့မဟုတ် PVD မှတဆင့် သေးငယ်သော ကိရိယာများ ဖန်တီးခြင်းဖြင့် ပါးလွှာသော ဖလင်များ စုဆောင်းခြင်းသည် အရေးကြီးပါသည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်များသည် လျှပ်ကူးမှုနှင့် insulating films များမှတဆင့် semiconductor အစိတ်အပိုင်းများကို တည်ဆောက်သည်။
ပိုပြီးဖတ်ပါတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် wafer ပြုပြင်ခြင်း၊ ဓာတ်တိုးခြင်း၊ ပုံသဏ္ဍာန်ပြုလုပ်ခြင်း၊ etching၊ ပါးလွှာသောဖလင်များထုတ်ခြင်း၊ အပြန်အလှန်ချိတ်ဆက်ခြင်း၊ စမ်းသပ်ခြင်းနှင့် ထုပ်ပိုးခြင်းတို့ပါဝင်သည်။ သဲမှ ဆီလီကွန်ကို wafers များအဖြစ် ပြုပြင်ပြီး တိကျမှုမြင့်မားသော ဆားကစ်များ အတွက......
ပိုပြီးဖတ်ပါဤဆောင်းပါးတွင် LED အလွှာသည် နီလာ၏ အကြီးမားဆုံး အသုံးချမှုဖြစ်ပြီး နီလာသလင်းကျောက်များကို ပြင်ဆင်သည့် အဓိကနည်းလမ်းများ- Czochralski နည်းလမ်းဖြင့် နီလာသလင်းကျောက်များ ကြီးထွားခြင်း၊ Kyropoulos နည်းလမ်းဖြင့် နီလာသလင်းကျောက်များ ကြီးထွားခြင်း၊ လမ်းညွှန်မှိုနည်းလမ်းဖြင့် နီလာသလင်းကျောက်များ ကြီးထွားလာခြင......
ပိုပြီးဖတ်ပါဆောင်းပါးသည် တစ်ခုတည်းသော သလင်းခဲမီးဖိုတွင် အပူချိန် gradient ကို ရှင်းပြထားသည်။ ၎င်းသည် crystal ကြီးထွားမှုအတွင်း တည်ငြိမ်ပြီး ရွေ့လျားနေသော အပူကွက်လပ်များကို ဖုံးအုပ်ပေးသည်၊ အစိုင်အခဲ-အရည်မျက်နှာပြင်နှင့် အပူချိန် gradient ၏ အခန်းကဏ္ဍကို ခိုင်မာစေပါသည်။
ပိုပြီးဖတ်ပါ