2024-09-23
Porous Graphite သည် အခြေခံပစ္စည်းအဖြစ် ဂရပ်ဖိုက်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသော porous structure ထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ပစ္စည်းကို သန့်စင်မြင့်ဂရပ်ဖိုက်ဖြင့် ပြုလုပ်ထားသည်။ VeTek Semiconductor Porous Graphite ၏ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ကန့်သတ်ချက်များသည် ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်နှင့် သီးခြားအသုံးချမှုအလိုက် ကွဲပြားသည်။ အောက်ပါတို့သည် ယေဘူယျရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဘောင်များဖြစ်သည်-
ရိုးရိုးရုပ်ဂုဏ်သတ္တိများporous graphite
အဲဒါ
ကန့်သတ်ချက်
အစုလိုက်သိပ်သည်းမှု
0.89 g/cm2
တွန်းအား
8.27 MPa
ကွေးညွှတ်ခွန်အား
8.27 MPa
ဆန့်နိုင်အား
1.72 MPa
တိကျသောခုခံမှု
130Ω-inX10စာ-၅
ချွေးပေါက်များခြင်း။
50%
ပျမ်းမျှ ချွေးပေါက်အရွယ်အစား
70um
အပူလျှပ်ကူးနိုင်စွမ်း
12W/M*K
Porous Graphite သည် သန့်ရှင်းသောဂရပ်ဖိုက်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားပြီး အလွန်ကောင်းမွန်သောလျှပ်စစ်စီးကူးမှု၊ အပူစီးကူးမှု၊ အပူချိန်မြင့်မားမှု၊ ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှု၊ ဓာတုတည်ငြိမ်မှုနှင့် အခြားဝိသေသလက္ခဏာများရှိသည်။ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ပြုပြင်ခြင်းလုပ်ငန်းတွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုသည်။
ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ဆောင်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် Porous Graphite ကို အောက်ပါရှုထောင့်များတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည်။:
Porous Graphite ၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူချိန်ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ဓာတုဗေဒတည်ငြိမ်မှုဖြစ်သည့် အက်ဆစ်၊ အယ်ကာလီနှင့် ပျော်ရည်များကဲ့သို့သော ဓာတုပစ္စည်းများအတွက် ချေးခံနိုင်ရည်ကောင်းသည့် မြင့်မားသောအပူချိန်နှင့် ပေါင်းစပ်ထားသောကြောင့် Porous Graphite ကို အပူချိန်မြင့် sintering နှင့် အပူကုသမှုကိရိယာများတွင် အသုံးပြုလေ့ရှိသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ Porous Graphite ကို အနားသပ်၊ လျှပ်ကာပစ္စည်း သို့မဟုတ် အပူချိန်မြင့်မီးဖိုများအတွက် အထောက်အပံ့ပစ္စည်းအဖြစ် အသုံးပြုနိုင်သည်။
ထို့အပြင်၊ Porous Graphite သည် တူညီသော အပူစက်ကွင်းနှင့် တည်ငြိမ်လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများကို ပေးစွမ်းရန် အလွန်ကောင်းမွန်သော လျှပ်စစ်စီးကူးမှုနှင့် အပူတည်ငြိမ်မှုရှိသည်။
ထို့ကြောင့် ဤထုတ်ကုန်ကို မကြာခဏအသုံးပြုသည်။ပျံ့နှံ့ခြင်း သို့မဟုတ် ဓာတ်တိုးခြင်းဖြစ်စဉ်ပျံ့နှံ့မှု အရင်းအမြစ် သို့မဟုတ် လျှပ်ကူးပစ္စည်းအဖြစ် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း လုပ်ဆောင်ခြင်း။
Porous Graphite ၏ ပေါက်ရောက်သောဖွဲ့စည်းပုံသည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းလုပ်ဆောင်ရာတွင် အသုံးပြုသည့်ဓာတ်ငွေ့များကို စစ်ထုတ်နိုင်ပြီး သန့်စင်စေကာ ဖြစ်နိုင်သောအမှုန်အမွှားများ ညစ်ညမ်းမှုကို လျှော့ချကာ လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုကို သေချာစေသည်။
၎င်း၏ ပေါက်ရောက်သောဖွဲ့စည်းပုံနှင့် လေဝင်လေထွက်ကောင်းမွန်သဖြင့် Porous Graphite အား ထိရောက်သောလေဟာနယ်စုပ်ယူမှုမှတစ်ဆင့် wafers သို့မဟုတ် အခြားအစိတ်အပိုင်းများကို ထိရောက်စွာပြုပြင်ရန်အတွက် ဖုန်စုပ်စုပ်မှုစနစ်တွင် Porous Graphite ကိုလည်း အခြေခံနှင့် fixture အဖြစ်အသုံးပြုနိုင်ပါသည်။
ဂရပ်ဖိုက်၏ sintering လုပ်ငန်းစဉ်ကို ချိန်ညှိခြင်းဖြင့် VeTek Semiconductor လုပ်နိုင်သည်မတူညီသောလျှောက်လွှာလိုအပ်ချက်များနှင့်ကိုက်ညီရန် မတူညီသော ချွေးပေါက်အရွယ်အစားနှင့် porosities များဖြင့် porous graphite ပစ္စည်းများကို စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်ပါ။.
Porous Graphite SiC Crystal Growth Porous Graphite ပွင့်ချပ်သုံးပွင့် Graphite Crucible
VeTek Semiconductor သည် ပရော်ဖက်ရှင်နယ် တရုတ်ထုတ်လုပ်သူ၊ ပေးသွင်းသူ၊ အထူးဂရပ်ဖိုက် ထုတ်ကုန်များ၏ စက်ရုံ၊SiC Crystal Growth Porous Graphite, Pyrolytic Carbon Coating ၊, Vitreous Carbon Coating ၊, Isotropic Graphite, ဆီလီကွန်ဂရပ်ဖစ်နှင့်High Purity Graphite Sheet. VeTek Semiconductor သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းအတွက် အထူးဂရပ်ဖိုက်ထုတ်ကုန်အမျိုးမျိုးအတွက် အဆင့်မြင့်ဖြေရှင်းချက်များအား ပံ့ပိုးပေးရန် ကတိပြုပါသည်။
သင့်တွင် စုံစမ်းမေးမြန်းမှုများ သို့မဟုတ် နောက်ထပ်အသေးစိတ်အချက်အလက်များ လိုအပ်ပါက၊ ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ရန် တုံ့ဆိုင်းမနေပါနှင့်။
Mob/WhatsAPP- +86-180 6922 0752
အီးမေးလ်- anny@veteksemi.com