> ထုတ်ကုန်များ > ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာ

ထုတ်ကုန်များ

ထုတ်ကုန်အသစ်များ

တရုတ် ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာ ထုတ်လုပ်သူ၊ တင်သွင်းသူ၊ စက်ရုံ

VeTek Semiconductor သည် အလွန်သန့်စင်သော Silicon Carbide Coating ထုတ်ကုန်များကို ထုတ်လုပ်ရာတွင် အထူးပြုထားပြီး၊ အဆိုပါ အပေါ်ယံလွှာများကို သန့်စင်ထားသော ဂရပ်ဖိုက်၊ ကြွေထည်များနှင့် သတ္တုဓာတ်သတ္တုအစိတ်အပိုင်းများတွင် အသုံးပြုရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။

ကျွန်ုပ်တို့၏ မြင့်မားသော သန့်စင်သောအပေါ်ယံလွှာများကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာနှင့် အီလက်ထရွန်နစ်စက်မှုလုပ်ငန်းများတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အဓိက ပစ်မှတ်ထားခြင်းဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့သည် MOCVD နှင့် EPI ကဲ့သို့သော လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ကြုံတွေ့ရသည့် အဆိပ်သင့်ပြီး ဓာတ်ပြုနိုင်သော ပတ်ဝန်းကျင်များမှ ကာကွယ်ပေးသည့် wafer carriers၊ susceptors နှင့် အပူဒြပ်စင်များအတွက် အကာအကွယ်အလွှာအဖြစ် ဆောင်ရွက်သည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်များသည် wafer လုပ်ငန်းစဉ်နှင့် စက်ပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။ ထို့အပြင်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ အပေါ်ယံလွှာများသည် လေဟာနယ်၊ ဓာတ်ပြုမှုနှင့် အောက်ဆီဂျင် မြင့်မားသော ပတ်ဝန်းကျင်များကို ကြုံတွေ့နေရသည့် လေဟာနယ်မီးဖိုများနှင့် နမူနာအပူပေးခြင်းများတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် ကောင်းမွန်သင့်လျော်ပါသည်။

VeTek Semiconductor တွင်၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် ကျွန်ုပ်တို့၏အဆင့်မြင့်စက်အရောင်းဆိုင်စွမ်းရည်များဖြင့် ပြည့်စုံသောဖြေရှင်းချက်ကို ပေးဆောင်ပါသည်။ ၎င်းသည် ကျွန်ုပ်တို့အား ဂရပ်ဖိုက်၊ ကြွေထည်များ သို့မဟုတ် ရုန်းအားသတ္တုများကို အသုံးပြု၍ အခြေခံအစိတ်အပိုင်းများကို ထုတ်လုပ်နိုင်ပြီး SiC သို့မဟုတ် TaC ကြွေထည်များကို အိမ်အတွင်းတွင် အသုံးပြုနိုင်သည်။ မတူကွဲပြားသောလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန် လိုက်လျောညီထွေရှိစေရန် ဖောက်သည်ပေးသောအစိတ်အပိုင်းများအတွက် coating ဝန်ဆောင်မှုများကိုလည်းပေးပါသည်။

ကျွန်ုပ်တို့၏ Silicon Carbide Coating ထုတ်ကုန်များကို Si epitaxy၊ SiC epitaxy၊ MOCVD စနစ်၊ RTP/RTA လုပ်ငန်းစဉ်၊ etching လုပ်ငန်းစဉ်၊ ICP/PSS etching လုပ်ငန်းစဉ်၊ အပြာရောင်နှင့် အစိမ်းရောင် LED၊ UV LED နှင့် deep-UV အပါအဝင် LED အမျိုးအစားအမျိုးမျိုး၏ လုပ်ငန်းစဉ်များ LED စသည်တို့ကို LPE၊ Aixtron၊ Veeco၊ Nuflare၊ TEL၊ ASM၊ Annealsys၊ TSI စသည်ဖြင့် စက်ပစ္စည်းများနှင့် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် ပြုလုပ်ထားသည်။

ကျွန်ုပ်တို့ လုပ်ဆောင်နိုင်သော ဓာတ်ပေါင်းဖို အစိတ်အပိုင်းများ

Silicon Carbide Coating များစွာသော ထူးခြားသော အားသာချက်များ

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor Silicon Carbide Coating Parameter

CVD SiC coating ၏ အခြေခံ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ
ပစ္စည်းဥစ္စာ	ရိုးရိုးတန်ဖိုး
အရည်ကြည်ဖွဲ့စည်းပုံ	FCC beta အဆင့် polycrystalline, အဓိကအားဖြင့် (111) oriented
SiC coating Density	3.21 g/cm³
SiC coating Hardness	Vickers မာကျောမှု 2500 (500 ဂရမ်ဝန်)
သီးနှံ SiZe	2~10μm
ဓာတုသန့်စင်မှု	99.99995%
အပူစွမ်းရည်	640 J·kg^စာ-၁·K^စာ-၁
Sublimation အပူချိန်	2700 ℃
Flexural Strength	415 MPa RT 4 ပွိုင့်
Young's Modulus	430 Gpa 4pt ကွေး၊ 1300 ℃
အပူလျှပ်ကူးနိုင်စွမ်း	300W·m^စာ-၁·K^စာ-၁
အပူပိုင်းချဲ့ထွင်ခြင်း(CTE)	4.5×10-6K^စာ-၁

CVD SIC ရုပ်ရှင်အရည်ကြည်ဖွဲ့စည်းပုံ

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

Silicon Carbide ဖြင့် ဖုံးအုပ်ထားသော Epi susceptor SiC Coating Wafer Carrier MOCVD အတွက် SiC coated Satellite cover CVD SiC Coating Wafer Epi Susceptor CVD SiC အပေါ်ယံအပူပေးသည့်ဒြပ်စင် Aixtron Satellite wafer သယ်ဆောင်သူ SiC Coating Epi လက်ခံကိရိယာ SiC coating halfmoon graphite အစိတ်အပိုင်းများ

View as

LPE PE2061S အတွက် SiC coated ပံ့ပိုးမှု

VeTek Semiconductor သည် တရုတ်နိုင်ငံရှိ LPE PE2061S အတွက် SiC Coated ပံ့ပိုးမှု၏ ထိပ်တန်းထုတ်လုပ်သူနှင့် ပေးသွင်းသူဖြစ်သည်။ LPE PE2061S အတွက် SiC Coated Support သည် LPE ဆီလီကွန် epitaxial ဓာတ်ပေါင်းဖိုအတွက် သင့်လျော်သည်။ စည်အောက်ခြေအောက်ခြေအနေဖြင့် LPE PE2061S အတွက် SiC Coated Support သည် မြင့်မားသောအပူချိန် 1600 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အလွန်ရှည်လျားသော ထုတ်ကုန်သက်တမ်းကို ရရှိပြီး ဖောက်သည်ကုန်ကျစရိတ်များကို လျှော့ချပေးပါသည်။ သင်၏စုံစမ်းမေးမြန်းမှုနှင့် နောက်ထပ်ဆက်သွယ်မှုများကို စောင့်မျှော်နေပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

LPE PE2061S အတွက် SiC coated top plate

VeTek Semiconductor သည် SiC coating ထုတ်ကုန်များတွင် နှစ်ပေါင်းများစွာ နက်နက်ရှိုင်းရှိုင်း ပါဝင်လုပ်ဆောင်ခဲ့ပြီး တရုတ်နိုင်ငံရှိ LPE PE2061S အတွက် SiC Coated Top Plate ၏ ထိပ်တန်းထုတ်လုပ်သူနှင့် ပေးသွင်းသူ ဖြစ်လာခဲ့သည်။ ကျွန်ုပ်တို့ပေးဆောင်သော LPE PE2061S အတွက် SiC ဖုံးအုပ်ထားသော ထိပ်ပြားသည် LPE ဆီလီကွန် epitaxial ဓာတ်ပေါင်းဖိုများအတွက် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားပြီး စည်အောက်ခြေနှင့် ထိပ်တွင် တည်ရှိသည်။ LPE PE2061S အတွက် ဤ SiC Coated Top Plate သည် အရည်အသွေးမြင့် epitaxial အလွှာများကို ကြီးထွားစေရန် ကူညီပေးသည့် မြင့်မားသော သန့်ရှင်းမှု၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် တူညီမှုကဲ့သို့သော ထူးခြားသောလက္ခဏာများ ရှိသည်။ သင်မည်သည့်ထုတ်ကုန်ကိုလိုအပ်နေပါစေ၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် သင်၏စုံစမ်းမေးမြန်းမှုကို စောင့်မျှော်နေပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

LPE PE2061S အတွက် SiC Coated Barrel Susceptor

တရုတ်နိုင်ငံ၏ ထိပ်တန်း wafer susceptor ထုတ်လုပ်သည့် စက်ရုံများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည့် VeTek Semiconductor သည် wafer susceptor ထုတ်ကုန်များတွင် စဉ်ဆက်မပြတ် တိုးတက်မှုကို ပြုလုပ်ခဲ့ပြီး epitaxial wafer ထုတ်လုပ်သူ အများအပြားအတွက် ပထမဆုံး ရွေးချယ်မှု ဖြစ်လာခဲ့သည်။ VeTek Semiconductor မှပံ့ပိုးပေးသော LPE PE2061S အတွက် SiC Coated Barrel Susceptor ကို LPE PE2061S 4'' wafers အတွက် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားပါသည်။ susceptor တွင် LPE (liquid phase epitaxy) လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် တာရှည်ခံမှုကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေသည့် တာရှည်ခံဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာတစ်ခုရှိသည်။ သင်၏စုံစမ်းမေးမြန်းမှုကိုကြိုဆိုပါသည်၊ သင်၏ရေရှည်လုပ်ဖော်ကိုင်ဖက်ဖြစ်လာရန် ကျွန်ုပ်တို့မျှော်လင့်ပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Solid SiC Gas Shower Head

Solid SiC Gas Shower Head သည် CVD လုပ်ငန်းစဉ်တွင် ဂတ်စ်ယူနီဖောင်းပြုလုပ်ရာတွင် အဓိကအခန်းကဏ္ဍမှပါဝင်ပြီး အလွှာ၏တူညီသောအပူရှိန်ကိုသေချာစေသည်။ VeTek Semiconductor သည် ခိုင်မာသော SiC စက်ပစ္စည်းများ၏နယ်ပယ်တွင် နှစ်ပေါင်းများစွာ ထဲထဲဝင်ဝင်ပါဝင်ခဲ့ပြီး သုံးစွဲသူများကို စိတ်ကြိုက် Solid SiC Gas Shower Heads များဖြင့် ပံ့ပိုးပေးနိုင်ပါသည်။ သင့်လိုအပ်ချက်များ မည်သို့ပင်ရှိစေကာမူ သင့်စုံစမ်းမေးမြန်းမှုကို ကျွန်ုပ်တို့ စောင့်မျှော်နေပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Chemical Vapor Deposition Process Solid SiC Edge Ring

VeTek Semiconductor သည် အဆင့်မြင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ပစ္စည်းများ သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးနှင့် ထုတ်လုပ်ရေး အတွက် အမြဲတမ်း ကတိပြုပါသည်။ ယနေ့တွင်၊ VeTek Semiconductor သည် ခိုင်မာသော SiC edge ring ထုတ်ကုန်များတွင် ကောင်းမွန်စွာတိုးတက်မှုရရှိပြီး သုံးစွဲသူများအား စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသော ခိုင်မာသော SiC edge rings များကို ပေးစွမ်းနိုင်ပြီဖြစ်သည်။ Solid SiC အစွန်းအကွင်းများသည် ပိုမိုကောင်းမွန်သော etching တူညီမှုနှင့် တိကျသော wafer positioning ကို ပေးစွမ်းနိုင်ပြီး၊ တသမတ်တည်းနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရသော etching ရလဒ်များကို သေချာစေသည်။ မင်းရဲ့စုံစမ်းမေးမြန်းမှုကို စောင့်မျှော်နေပြီး တစ်ယောက်နဲ့တစ်ယောက်ရဲ့ ရေရှည်လက်တွဲဖော်ဖြစ်လာဖို့ စောင့်မျှော်နေပါတယ်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Solid SiC Etching Focusing Ring

Solid SiC Etching Focusing Ring သည် wafer etching လုပ်ငန်းစဉ်၏ အဓိက အစိတ်အပိုင်းများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်ပြီး၊ ၎င်းသည် wafer ကို ပြုပြင်ခြင်း၊ ပလာစမာကို အာရုံစိုက်ခြင်းနှင့် wafer etching တူညီမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေခြင်းတွင် ပါဝင်ပါသည်။ တရုတ်နိုင်ငံတွင် ထိပ်တန်း SiC Focusing Ring ထုတ်လုပ်သူအနေဖြင့် VeTek Semiconductor သည် အဆင့်မြင့်နည်းပညာနှင့် ရင့်ကျက်သောလုပ်ငန်းစဉ်ရှိပြီး သုံးစွဲသူများ၏လိုအပ်ချက်နှင့်အညီ အဆုံးစွန်သောဖောက်သည်များ၏လိုအပ်ချက်များကို အပြည့်အဝဖြည့်ဆည်းပေးသည့် Solid SiC Etching Focusing Ring ကို ထုတ်လုပ်ပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည် သင်၏စုံစမ်းမေးမြန်းမှုကို စောင့်မျှော်နေပြီး တစ်ဦးနှင့်တစ်ဦး၏ ရေရှည်လက်တွဲဖော်များ ဖြစ်လာစေရန် မျှော်လင့်ပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

<...14 15 16 17 18 >

တရုတ်နိုင်ငံရှိ ပရော်ဖက်ရှင်နယ် ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာ ထုတ်လုပ်သူနှင့် ပေးသွင်းသူအနေဖြင့် ကျွန်ုပ်တို့တွင် ကျွန်ုပ်တို့၏ ကိုယ်ပိုင်စက်ရုံရှိသည်။ သင့်ဒေသ၏ သီးခြားလိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီရန် စိတ်ကြိုက်ဝန်ဆောင်မှုများ လိုအပ်သည်ဖြစ်စေ သို့မဟုတ် တရုတ်နိုင်ငံမှ ထုတ်လုပ်သော အဆင့်မြင့်ပြီး တာရှည်ခံသည့် ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာ ကို ဝယ်ယူလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ မက်ဆေ့ချ် ထားခဲ့နိုင်ပါသည်။