SiC Diffusion Furnace Tube

SiC Diffusion Furnace Tube ၏ အလုပ်လုပ်ပုံဇယား

VeTek Semiconductor SiC Diffusion Furnace Tube တွင်အောက်ပါထုတ်ကုန်အားသာချက်များရှိသည်။

အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူချိန် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ: SiC Diffusion Furnace Tube တွင် အလွန်အစွမ်းထက်မြက်သော ခိုင်ခံ့မှုနှင့် တွားသွားခြင်းကို ခံနိုင်ရည် အပါအဝင် လူသိများသော ကြွေထည်ပစ္စည်းများ၏ အကောင်းဆုံး အပူချိန်မြင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ ရှိပါသည်။ ၎င်းသည် မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် ရေရှည်တည်ငြိမ်မှုလိုအပ်သော application များအတွက် အထူးသင့်လျော်စေသည်။

အထူးကောင်းမွန်သော Oxidation ခုခံမှု: VeTek Semiconductor ၏ SiC Diffusion Furnace Tube သည် အလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတ်တိုးမှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အောက်ဆိုဒ်မဟုတ်သော ကြွေထည်များအားလုံးတွင် အကောင်းဆုံးဖြစ်သည်။ ဤပိုင်ဆိုင်မှုသည် မြင့်မားသောအပူချိန်ပတ်ဝန်းကျင်တွင် ရေရှည်တည်ငြိမ်မှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကိုသေချာစေပြီး ပျက်စီးယိုယွင်းမှုအန္တရာယ်ကို လျှော့ချပေးပြီး ပြွန်၏သက်တမ်းကို တိုးစေသည်။

● မြင့်မားသော Flexural Strength: VeTekSemi SiC Diffusion Furnace Tube တွင် 200MPa ထက်ပိုသော flexural strength ပါရှိပြီး၊ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးတာ ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်များ၏ ပုံမှန်စိတ်ဖိစီးမှုအခြေအနေများအောက်တွင် အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာ ခိုင်မာမှုကို သေချာစေသည်။

● Excellent Corrosion Resistancee: SiC Furnace Tube ၏ ဓာတုမတည်ငြိမ်မှုသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော ချေးခံနိုင်ရည်ကို ပေးစွမ်းသောကြောင့် ဤပြွန်များကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ဆောင်ခြင်းတွင် ကြုံတွေ့ရလေ့ရှိသော ပြင်းထန်သောဓာတုပတ်ဝန်းကျင်များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အကောင်းဆုံးဖြစ်သည်။

● မြင့်မားသော Wear Resistance: SiC tube မီးဖိုများသည် အညစ်အကြေးအခြေအနေများတွင် အချိန်ကြာမြင့်စွာ အသုံးပြုသောအခါ အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းသိမ်းရန်နှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုလိုအပ်ချက်များကို လျှော့ချရန်အတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော ခိုင်ခံ့သော ဝတ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

● CVD coating ဖြင့်: VeTek semiconductor chemical vapor deposition (CVD) sic coating သည် 99.9995%, 5ppm ထက်နည်းသော အညစ်အကြေးပါဝင်မှုနှင့် အန္တရာယ်ရှိသောသတ္တုညစ်ညမ်းမှု 1ppm ထက်နည်းပါသည်။ CVD အပေါ်ယံပိုင်းလုပ်ငန်းစဉ်သည် ပြွန်သည် တိကျမှုမြင့်မားသော semiconductor ထုတ်လုပ်မှုပတ်ဝန်းကျင်အတွက် အရေးကြီးသော 2-3Torr ၏ တင်းကျပ်သော လေဟာနယ်တင်းကျပ်မှုလိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီကြောင်း သေချာစေသည်။

● ပျံ့နှံ့နေသော မီးဖိုများတွင် အသုံးပြုခြင်း။: ဤ sic tubes များသည် doping နှင့် oxidation ကဲ့သို့သော အပူချိန်မြင့်သော လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အဓိကအခန်းကဏ္ဍမှပါဝင်သည့် semiconductor diffusion မီးဖိုများအတွက် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားပါသည်။ ၎င်းတို့၏အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းဂုဏ်သတ္တိများသည် ဤလုပ်ငန်းစဉ်များ၏ ကြမ်းတမ်းသောအခြေအနေများကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် သေချာစေပြီး၊ ထို့ကြောင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်မှု၏ ထိရောက်မှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို တိုးတက်စေသည်။

VeTek Semiconductor သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းအတွက် အဆင့်မြင့်နည်းပညာနှင့် ထုတ်ကုန်ဖြေရှင်းချက်များကို ပံ့ပိုးပေးရန်နှင့် ပရော်ဖက်ရှင်နယ်စိတ်ကြိုက်ဝန်ဆောင်မှုများကို ပံ့ပိုးပေးရန်အတွက် ကာလရှည်ကြာကတိပြုထားသည်။ VeTek Semiconductor ၏ SiC Diffusion Furnace Tube ကိုရွေးချယ်ခြင်းဖြင့် ခေတ်မီတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်း၏ အမျိုးမျိုးသောလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန် အလွန်ကောင်းမွန်သောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့် မြင့်မားသောယုံကြည်စိတ်ချရမှုရှိသော ထုတ်ကုန်ကို သင်ရရှိမည်ဖြစ်ပါသည်။ တရုတ်နိုင်ငံတွင် သင်၏ရေရှည်လက်တွဲဖော်ဖြစ်လာရန် ကျွန်ုပ်တို့ ရိုးသားစွာမျှော်လင့်ပါသည်။

VeTek Semiconductor SiC Diffusion Furnace Tube ထုတ်ကုန်အရောင်းဆိုင်များ