ထုတ်ကုန်များ

View as

MAX Phase Nanopowder

Veteksemi ၏ Semiconductor MAX အဆင့် nanopowder သည် အဆင့်မြင့် အီလက်ထရွန်းနစ်နှင့် ပစ္စည်းများ သိပ္ပံဆိုင်ရာ အသုံးချမှုများအတွက် အထူးသင့်လျော်သော အပူနှင့် လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများကို ပေးဆောင်သည်။ သာလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်ခုခံမှုနှင့် အပူချိန်မြင့်မားသော တည်ငြိမ်မှုတို့ဖြင့်၊ Veteksemi ၏ နာနိုမှုန့်သည် ဆန်းသစ်တီထွင်ထားသော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးနည်းပညာများအတွက် အကောင်းဆုံးဖြေရှင်းချက်ဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့ထံ စုံစမ်းမေးမြန်းရန် ကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

အပူဖြန်းနည်းပညာ MLCC capacitor

Vetek Semiconductor အပူဖြန်းခြင်းနည်းပညာသည် မြင့်မားသောအဆင့်မြင့် multilayer ceramic capacitor (MLCC) ပစ္စည်းများအတွက် sintered crucibles များကို coating ပြုလုပ်ရာတွင် အလွန်အရေးကြီးသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ စဉ်ဆက်မပြတ် အသေးစားပြုလုပ်ခြင်း နှင့် အီလက်ထရွန်းနစ်ပစ္စည်းများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားမှုနှင့်အတူ၊ အပူဖြန်းခြင်းနည်းပညာ MLCC capacitors လိုအပ်ချက်သည်လည်း အထူးသဖြင့် တန်ဖိုးကြီးသော အသုံးချပရိုဂရမ်များတွင် လျင်မြန်စွာ ကြီးထွားလာသည်။ ဤလိုအပ်ချက်ကိုဖြည့်ဆည်းရန်အတွက်၊ sintering လုပ်ငန်းစဉ်တွင်အသုံးပြုသော crucibles များသည် အလွန်ကောင်းမွန်သောမြင့်မားသောအပူချိန်ခံနိုင်ရည်ရှိရန်၊ corrosion resistance နှင့် ကောင်းသောအပူစီးကူးနိုင်မှုတို့ရှိရမည်ဖြစ်ပြီး ၎င်းတို့အားလုံးကို အပူဖြန်းခြင်းနည်းပညာဖြင့် အောင်မြင်ပြီး မြှင့်တင်နိုင်ပါသည်။ သင်နှင့်အတူရေရှည်စီးပွားရေးထူထောင်ရန်မျှော်လင့်နေပါတယ်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Wafer Handling စက်ရုပ်လက်မောင်း

Vetek Semiconductor အပူဖြန်းနည်းပညာသည် အထူးသဖြင့် မြင့်မားသောတိကျမှုနှင့် မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုလိုအပ်သော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်သည့်ပတ်ဝန်းကျင်များတွင် wafer စက်ရုပ်လက်များကိုကိုင်တွယ်အသုံးပြုရာတွင် အရေးပါသောအခန်းကဏ္ဍမှပါဝင်ပါသည်။ ဤနည်းပညာသည် wafer ကိုင်တွယ်စက်ရုပ်လက်မောင်း၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အထူးပစ္စည်းများကို ဖုံးအုပ်ခြင်းဖြင့် စက်၏ကြာရှည်ခံမှု၊ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် အလုပ်ထိရောက်မှုကို သိသိသာသာ တိုးတက်စေသည်။ ကျွန်တော်တို့ကိုစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Semiconductor အပူဖြန်းနည်းပညာ

Vetek Semiconductor Semiconductor အပူဖြန်းခြင်းနည်းပညာသည် အလွှာတစ်ခု၏မျက်နှာပြင်ပေါ်သို့ သွန်းသော သို့မဟုတ် တစ်ပိုင်းသွန်းနေသောအခြေအနေတွင် အရာဝတ္ထုများကို ဖြန်းပေးသည့်အဆင့်မြင့်လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤနည်းပညာကို တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းနယ်ပယ်တွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုကြပြီး လျှပ်ကူးနိုင်မှု၊ လျှပ်ကာ၊ ချေးခံနိုင်ရည်နှင့် ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှုတို့ကဲ့သို့သော အလွှာ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ သီးခြားလုပ်ဆောင်ချက်များဖြင့် အပေါ်ယံအလွှာများဖန်တီးရန် အဓိကအသုံးပြုသည်။ အပူဖြန်းခြင်းနည်းပညာ၏ အဓိကအားသာချက်များတွင် မြင့်မားသောထိရောက်မှု၊ ထိန်းချုပ်နိုင်သော အပေါ်ယံအထူနှင့် ကောင်းမွန်သော coating adhesion ပါ၀င်သောကြောင့် မြင့်မားသောတိကျမှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုလိုအပ်သော ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် အထူးအရေးကြီးပါသည်။ မင်းရဲ့စုံစမ်းမေးမြန်းမှုကို စောင့်မျှော်နေပါတယ်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Porous SiC Vacuum Chuck

တရုတ်နိုင်ငံရှိ ပရော်ဖက်ရှင်နယ် Porous SiC Vacuum Chuck ထုတ်လုပ်သူနှင့် ပေးသွင်းသူအနေဖြင့် Vetek Semiconductor ၏ Porous SiC Vacuum Chuck ကို အထူးသဖြင့် CVD နှင့် PECVD လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အဓိကအစိတ်အပိုင်းများတွင် အသုံးများပါသည်။ Vetek Semiconductor သည် စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် Porous SiC Vacuum Chuck ကို ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့် ထောက်ပံ့ပေးခြင်းတွင် အထူးပြုပါသည်။ သင်၏နောက်ထပ်မေးမြန်းချက်များကိုကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Porous Ceramic Vacuum Chuck

တရုတ်နိုင်ငံရှိ ပရော်ဖက်ရှင်နယ် Porous Ceramic Vacuum Chuck ထုတ်လုပ်သူနှင့် ပေးသွင်းသူအနေဖြင့် Vetek Semiconductor ၏ Porous Ceramic Vacuum Chuck ကို ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ကြွေထည် (SiC) ပစ္စည်းဖြင့် ပြုလုပ်ထားပြီး၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း၊ ဓာတုတည်ငြိမ်မှုနှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ကြံ့ခိုင်မှုတို့ဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အဓိကအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ သင်၏နောက်ထပ်မေးမြန်းချက်များကိုကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

<...2 3 4 5 6...27 >