ထုတ်ကုန်များ

View as

CVD TaC Coating Wafer Carrier

တရုတ်နိုင်ငံရှိ ပရော်ဖက်ရှင်နယ် CVD TaC Coating Wafer Carrier ထုတ်ကုန်ထုတ်လုပ်သူနှင့် စက်ရုံတစ်ခုအနေဖြင့် VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်မှုတွင် မြင့်မားသောအပူချိန်နှင့် အဆိပ်ရှိသောပတ်ဝန်းကျင်အတွက် အထူးဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည့် wafer သယ်ဆောင်သည့်ကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤထုတ်ကုန်သည် မြင့်မားသောစက်ပိုင်းဆိုင်ရာအား၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော ချေးခံနိုင်ရည်နှင့် အပူတည်ငြိမ်မှုရှိပြီး အရည်အသွေးမြင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာကိရိယာများကို ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် လိုအပ်သောအာမခံချက်ပေးစွမ်းပါသည်။ သင်၏နောက်ထပ်စုံစမ်းမေးမြန်းမှုများကိုကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Epi wafer ကိုင်ဆောင်သူ

VeTek Semiconductor သည် တရုတ်နိုင်ငံရှိ ပရော်ဖက်ရှင်နယ် Epi Wafer Holder ထုတ်လုပ်သူနှင့် စက်ရုံဖြစ်သည်။ Epi Wafer Holder သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ဆောင်ခြင်းတွင် epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်အတွက် wafer ကိုင်ဆောင်သူဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် wafer ကိုတည်ငြိမ်စေပြီး epitaxial အလွှာ၏တူညီသောကြီးထွားမှုကိုသေချာစေရန်အဓိကကိရိယာဖြစ်သည်။ ၎င်းကို MOCVD နှင့် LPCVD ကဲ့သို့သော epitaxy ပစ္စည်းများတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည်။ ၎င်းသည် epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အစားထိုး၍မရသော ကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။ သင်၏ နောက်ထပ် တိုင်ပင်ဆွေးနွေးမှုကို ကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Aixtron Satellite wafer သယ်ဆောင်သူ

တရုတ်နိုင်ငံရှိ ပရော်ဖက်ရှင်နယ် Aixtron Satellite Wafer Carrier ထုတ်ကုန်ထုတ်လုပ်သူနှင့် တီထွင်သူအနေဖြင့် VeTek Semiconductor's Aixtron Satellite Wafer Carrier သည် AIXTRON စက်ကိရိယာများတွင် အသုံးပြုသည့် wafer carrier ဖြစ်ပြီး၊ semiconductor လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အဓိကအားဖြင့် MOCVD လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အသုံးပြုပြီး အပူချိန်မြင့်ခြင်းနှင့် တိကျမှုမြင့်မားခြင်းအတွက် အထူးသင့်လျော်ပါသည်။ semiconductor လုပ်ငန်းစဉ်များ။ သယ်ဆောင်သူသည် MOCVD epitaxial ကြီးထွားမှုအတွင်း တည်ငြိမ်သော wafer အထောက်အပံ့နှင့် တူညီသောဖလင်အစစ်ခံမှုကို ပေးစွမ်းနိုင်ပြီး၊ ၎င်းသည် အလွှာအစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။ သင်၏ နောက်ထပ် တိုင်ပင်ဆွေးနွေးမှုကို ကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

LPE Halfmoon SiC EPI ဓာတ်ပေါင်းဖို

VeTek Semiconductor သည် တရုတ်နိုင်ငံတွင် ပရော်ဖက်ရှင်နယ် LPE Halfmoon SiC EPI ဓာတ်ပေါင်းဖို ထုတ်ကုန်ထုတ်လုပ်သူ၊ တီထွင်သူနှင့် ခေါင်းဆောင်တစ်ဦးဖြစ်သည်။ LPE Halfmoon SiC EPI Reactor သည် အရည်အသွေးမြင့် ဆီလီကွန်ကာဗိုက် (SiC) epitaxial အလွှာများကို ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အထူးဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည့် စက်ဖြစ်ပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ငန်းတွင် အဓိကအသုံးပြုသည်။ VeTek Semiconductor သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းအတွက် ထိပ်တန်းနည်းပညာနှင့် ထုတ်ကုန်ဖြေရှင်းချက်များကို ပေးအပ်ရန် ကတိပြုထားပြီး သင်၏ နောက်ထပ်စုံစမ်းမေးမြန်းမှုများကို ကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

TaC အပေါ်ယံအပူပေးစက်

VeTek Semiconductor သည် တရုတ်နိုင်ငံရှိ TaC Coating Heater ၏ ထိပ်တန်းထုတ်လုပ်သူနှင့် တီထွင်သူဖြစ်သည်။ ဤထုတ်ကုန်သည် အလွန်မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ် (3880°C ခန့်) ရှိသည်။ TaC Coating Heater ၏ မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ်သည် အလွန်မြင့်မားသော အပူချိန်တွင် လည်ပတ်နိုင်စေပြီး အထူးသဖြင့် သတ္တုအော်ဂဲနစ် ဓာတုအငွေ့များ စုပုံခြင်း (MOCVD) လုပ်ငန်းစဉ်တွင် Galium nitride (GaN) epitaxial အလွှာများ ကြီးထွားလာခြင်းဖြစ်သည်။ VeTek Semiconductor သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းအတွက် အဆင့်မြင့်နည်းပညာနှင့် ထုတ်ကုန်ဖြေရှင်းချက်များကို ပေးအပ်ရန် ကတိပြုပါသည်။ တရုတ်နိုင်ငံတွင် သင်၏ရေရှည်လက်တွဲဖော်ဖြစ်လာရန် ကျွန်ုပ်တို့ မျှော်လင့်ပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ အငွေ့ထွက်ခြင်း။

Vetek semiconductor Physical Vapor Deposition (PVD) သည် မျက်နှာပြင် သန့်စင်ခြင်းနှင့် ပါးလွှာသော ဖလင်ပြင်ဆင်မှုတို့တွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုသည့် အဆင့်မြင့် လုပ်ငန်းစဉ် နည်းပညာတစ်ခု ဖြစ်သည်။ PVD နည်းပညာသည် ပစ္စည်းများကို အစိုင်အခဲ သို့မဟုတ် အရည်မှ ဓာတ်ငွေ့သို့ တိုက်ရိုက်အသွင်ပြောင်းပြီး ပစ်မှတ်အလွှာ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ ပါးလွှာသော ဖလင်ပြားကို ဖန်တီးရန် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ နည်းလမ်းများကို အသုံးပြုသည်။ ဤနည်းပညာသည် မြင့်မားသောတိကျမှု၊ တူညီမှုနှင့် ခိုင်ခံ့သော adhesion ၏အားသာချက်များရှိပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာများ၊ optical ကိရိယာများ၊ ကိရိယာအပေါ်ယံများနှင့် အလှဆင်အလွှာများတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့နှင့် ဆွေးနွေးရန် ကြိုဆိုပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

<1 2 3 4 5...27 >