Tantalum carbide နည်းပညာကို ဖြတ်ကျော်ပြီး SiC epitaxial ညစ်ညမ်းမှုကို 75% လျှော့ချပေးသည်။

မကြာသေးမီက ဂျာမန်သုတေသနအင်စတီကျု Fraunhofer IISB သည် သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးတွင် အောင်မြင်မှုတစ်ခုကို ပြုလုပ်ခဲ့သည်။တန်တလမ်ကာဘိုင်အလွှာနည်းပညာနှင့် CVD အပ်နှံမှုဖြေရှင်းချက်ထက် ပိုမိုပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်နှင့် ပတ်ဝန်းကျင်နှင့် သဟဇာတဖြစ်သော မှုတ်အလွှာကို တီထွင်ခဲ့ပြီး စီးပွားဖြစ်ထုတ်လုပ်ခဲ့သည်။

ပြည်တွင်း vetek semiconductor သည် ဤနယ်ပယ်တွင် အောင်မြင်မှုများလည်း ပြုလုပ်ထားပြီး၊ အသေးစိတ်အတွက် ကျေးဇူးပြု၍ အောက်တွင် ကြည့်ရှုပါ။

Fraunhofer IISB-

TaC coating နည်းပညာအသစ်ကို တီထွင်ခြင်း။

မတ်လ ၅ ရက်နေ့ထုတ် မီဒီယာများ အရ “ဒြပ်ပေါင်း Semiconductor", Fraunhofer IISB သည် အသစ်တီထွင်လိုက်ပါသည်။တန်တလမ်ကာဗိုက် (TaC) အပေါ်ယံနည်းပညာ-Taccotta. The technology license has been transferred to Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG), and NKCG has begun to provide TaC-coated graphite parts for their customers.

စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် TaC coatings ထုတ်လုပ်ခြင်း၏ ရိုးရာနည်းလမ်းမှာ ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်ကြီးမြင့်ခြင်းနှင့် ပေးပို့ချိန်ကြာမြင့်ခြင်းကဲ့သို့သော အားနည်းချက်များနှင့် ရင်ဆိုင်နေရသော ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (CVD) ဖြစ်သည်။ ထို့အပြင်၊ CVD နည်းလမ်းသည် အစိတ်အပိုင်းများကို ထပ်ခါတလဲလဲ အပူပေးကာ အအေးခံချိန်တွင် TaC ကွဲအက်ခြင်းကိုလည်း ကြုံနိုင်သည်။ ဤအက်ကွဲကြောင်းများသည် အချိန်ကြာလာသည်နှင့်အမျှ ပြင်းထန်စွာ ကျဆင်းသွားသည့် အခြေခံဂရပ်ဖိုက်များကို ဖော်ထုတ်ပေးပြီး အစားထိုးရန် လိုအပ်သည်။

Taccotta ၏ ဆန်းသစ်တီထွင်မှုမှာ ၎င်းသည် မြင့်မားသော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ တည်ငြိမ်မှုနှင့် အထူကို ချိန်ညှိနိုင်သော TaC coating ပြုလုပ်ရန် ရေကိုအခြေခံသည့် စပရေးစပရေးအပေါ်ယံပိုင်းနည်းလမ်းကို အသုံးပြု၍ အပူချိန်ကို ကုသမှုခံယူခြင်းဖြင့်၊ဂရပ်ဖိုက်အလွှာ. ကွဲပြားခြားနားသောလျှောက်လွှာလိုအပ်ချက်များနှင့်ကိုက်ညီရန် coating ၏အထူကို 20 microns မှ 200 microns မှချိန်ညှိနိုင်သည်။

Fraunhofer IISB မှထုတ်လုပ်သော TaC လုပ်ငန်းစဉ်နည်းပညာသည် 35μm မှ 110 μm အကွာအဝေးတွင် အောက်တွင်ပြထားသည့်အတိုင်း အထူကဲ့သို့သော လိုအပ်သော coating properties ကို ချိန်ညှိနိုင်သည်။

အထူးသဖြင့်၊ Taccotta spray coating တွင် အောက်ဖော်ပြပါ အဓိကအင်္ဂါရပ်များနှင့် အားသာချက်များ ရှိပါသည်။

● ပတ်ဝန်းကျင်နှင့် ပိုမိုသဟဇာတဖြစ်မှု- ရေအခြေခံဖြန်းဆေးဖြင့်၊ ဤနည်းလမ်းသည် သဘာဝပတ်ဝန်းကျင်နှင့် ပိုမိုသဟဇာတဖြစ်ပြီး စက်မှုလုပ်ငန်းအတွက် လွယ်ကူပါသည်။

● ပျော့ပြောင်းနိုင်မှု- Taccotta နည်းပညာသည် CVD တွင် မဖြစ်နိုင်သော တစ်စိတ်တစ်ပိုင်းအပေါ်ယံပိုင်းနှင့် အစိတ်အပိုင်းများကို ပြန်လည်မွမ်းမံခြင်းတို့ကို ခွင့်ပြုနိုင်ပြီး အရွယ်အစားအမျိုးမျိုးနှင့် ဂျီသြမေတြီများ၏ အစိတ်အပိုင်းများနှင့် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်နိုင်သည်။

● တန်တလမ်ညစ်ညမ်းမှုကို လျှော့ချပေးသည်- Taccotta coating ပါရှိသော Graphite အစိတ်အပိုင်းများကို SiC epitaxial ထုတ်လုပ်မှုတွင် အသုံးပြုကြပြီး ရှိပြီးသားနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက တန်တလမ်ညစ်ညမ်းမှုကို 75% လျှော့ချသည်CVD အပေါ်ယံပိုင်း.

● ဝတ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်- ခြစ်ရာစမ်းသပ်မှုများသည် အပေါ်ယံအထူကို တိုးမြင့်စေပြီး ဝတ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်ကို သိသိသာသာ မြှင့်တင်ပေးနိုင်ကြောင်း ပြသသည်။

ခြစ်ရာစမ်းသပ်မှု

စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် ဂရပ်ဖိုက်ပစ္စည်းများနှင့် ဆက်စပ်ထုတ်ကုန်များကို ပံ့ပိုးပေးသည့် ဖက်စပ်လုပ်ငန်းဖြစ်သည့် NKCG မှ စီးပွားဖြစ်နည်းပညာကို မြှင့်တင်ထားကြောင်း သတင်းရရှိပါသည်။ NKCG သည် အနာဂတ်တွင် Taccotta နည်းပညာ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးတွင် အချိန်အတော်ကြာ ပါဝင်ဆောင်ရွက်သွားမည်ဖြစ်သည်။ ကုမ္ပဏီသည် ၎င်းတို့၏ဖောက်သည်များအား Taccotta နည်းပညာကိုအခြေခံ၍ ဂရပ်ဖိုက်အစိတ်အပိုင်းများကို စတင်ပေးနေပြီဖြစ်သည်။

Vetek Semiconductor သည် TaC ၏ဒေသခံကိုမြှင့်တင်ပေးသည်။

2023 အစောပိုင်းတွင် vetek semiconductor သည် မျိုးဆက်သစ်ကို စတင်ခဲ့သည်။SiC ကြည်လင်ကြီးထွားမှုအပူစက်ကွင်းပစ္စည်း-porous တန်တလမ်ကာဗိုက်.

အစီရင်ခံစာများအရ vetek semiconductor သည် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုတွင် အောင်မြင်မှုတစ်ခုကို စတင်ခဲ့သည်။porous တန်တလမ်ကာဗိုက်အမှီအခိုကင်းသော နည်းပညာသုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုမှတဆင့် ကြီးမားသော porosity နှင့်အတူ။ ၎င်း၏ porosity သည် 75% အထိ နိုင်ငံတကာ ခေါင်းဆောင်မှုကို ရရှိနိုင်သည်။