TaC Coating လှည့်ပတ်ပြား

VeTek Semiconductor၏ TaC coating Rotation Plate တွင် မြင့်မားသော သန့်စင်မှုပါဝင်မှု၊ 5ppm ထက်နည်းသော အညစ်အကြေးပါဝင်မှုနှင့် အလွန်သိပ်သည်းပြီး တူညီသောဖွဲ့စည်းပုံ၊ LPE EPI စနစ်များ၊ Aixtron စနစ်များ၊ Nuflare စနစ်များ၊ TEL CVD စနစ်များ၊ VEECO စနစ်များ၊TSI တို့တွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုလျက်ရှိသည်။ စနစ်များ။

အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ

အပေါ်ယံမာကျောမှု 2300HV အထိ၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော ဝတ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

အပေါ်ယံနှင့် အလွှာကြားတွင် ကပ်ငြိမှုအားကောင်းပြီး ကျွတ်ရန် သို့မဟုတ် အခွံခွာရန် မလွယ်ကူပါ။

coating သည် မြင့်မားသော အပူချိန်တွင် ကောင်းမွန်သော ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာ တည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်သည်။

အလွန်ကောင်းမွန်သော သံချေးတက်ခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

TaC ပစ္စည်းကိုယ်တိုင်က အလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတုတည်ငြိမ်မှုနှင့် ချေးခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၏အပေါ်ယံပိုင်းသည် ပြင်းထန်သောဓာတ်ငွေ့ပတ်ဝန်းကျင်အမျိုးမျိုးတွင် ကောင်းမွန်စွာလုပ်ဆောင်သည်။

စက်၏အတွင်းပိုင်းအစိတ်အပိုင်းများကို သံချေးတက်ခြင်းမှ ထိရောက်စွာကာကွယ်ပေးနိုင်သည်။

မျက်နှာပြင်မြင့်

VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းသည် အလိုရှိသော အပြီးသတ်မှုကို ထုတ်လုပ်ရန် တိကျသော coating လုပ်ငန်းစဉ်ကို အသုံးပြုသည်။

မျက်နှာပြင် ကြမ်းတမ်းမှု နည်းပါးခြင်းသည် အမှုန်အမွှားများ စုပုံခြင်းနှင့် အစစ်ခံခြင်းကို လျှော့ချပေးသည်။

အပေါ်ယံ ညီညွတ်မှု ကောင်းသည်-

VeTek Semiconductorသည် အတွဲများကြားတွင် တသမတ်တည်း စွမ်းဆောင်နိုင်စေရန်အတွက် အသံအရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှုစနစ် ပါရှိသည်။

အပေါ်ယံအထူသည် အညီအမျှ ဖြန့်ဝေထားပြီး ထင်ရှားသော ဒေသဆိုင်ရာ ချွတ်ယွင်းချက်မရှိပါ။

အလွန်ကောင်းမွန်သော လက်တွေ့အသုံးချမှုစွမ်းဆောင်ရည်

VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၏ TaC အပေါ်ယံပိုင်းကို ပြည်တွင်းပြည်ပရှိ နာမည်ကြီး epitaxial ပစ္စည်းထုတ်လုပ်သူများစွာတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုပါသည်။

TaC Coated Rotation Plate ၏ ထုတ်ကုန်ပိုင်းဆိုင်ရာ ကန့်သတ်ချက်-