TaC အပေါ်ယံအပူပေးစက်

VeTek Semiconductor သည် တရုတ်နိုင်ငံရှိ TaC Coating Heater ၏ ထိပ်တန်းထုတ်လုပ်သူနှင့် တီထွင်သူဖြစ်သည်။ ဤထုတ်ကုန်သည် အလွန်မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ် (3880°C ခန့်) ရှိသည်။ TaC Coating Heater ၏ မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ်သည် အလွန်မြင့်မားသော အပူချိန်တွင် လည်ပတ်နိုင်စေပြီး အထူးသဖြင့် သတ္တုအော်ဂဲနစ် ဓာတုအငွေ့များ စုပုံခြင်း (MOCVD) လုပ်ငန်းစဉ်တွင် Galium nitride (GaN) epitaxial အလွှာများ ကြီးထွားလာခြင်းဖြစ်သည်။ VeTek Semiconductor သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းအတွက် အဆင့်မြင့်နည်းပညာနှင့် ထုတ်ကုန်ဖြေရှင်းချက်များကို ပေးအပ်ရန် ကတိပြုပါသည်။ တရုတ်နိုင်ငံတွင် သင်၏ရေရှည်လက်တွဲဖော်ဖြစ်လာရန် ကျွန်ုပ်တို့ မျှော်လင့်ပါသည်။

စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ကုန်ပစ္စည်းအကြောင်းအရာ

TaC Coating Heater သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အသုံးများသော စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် အပူဒြပ်စင် ဖြစ်သည်။ ၎င်း၏မျက်နှာပြင်ကို tantalum carbide (TaC) ပစ္စည်းဖြင့် ဖုံးအုပ်ထားပြီး အပူပေးစက်အား အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိကာ ဓာတုချေးစားမှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူစီးကူးမှုကို ပေးပါသည်။

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် TaC Coating Heater ၏ အဓိကအသုံးချမှုများ ပါဝင်သည်။

gallium nitride (GaN) epitaxial ကြီးထွားမှုလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း၊ TaC Coating Heater သည် epitaxial အလွှာကို တူညီသောနှုန်းထားနှင့် အရည်အသွေးမြင့်မားသော အလွှာပေါ်တွင် အပ်နှံကြောင်းသေချာစေရန် TaC Coating Heater သည် တိကျစွာထိန်းချုပ်ထားသော မြင့်မားသောအပူချိန်ပတ်ဝန်းကျင်ကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။ ၎င်း၏တည်ငြိမ်သောအပူထွက်ရှိမှုသည် ပါးလွှာသောဖလင်ပစ္စည်းများကို တိကျသောထိန်းချုပ်မှုရရှိရန် ကူညီပေးပြီး စက်ပစ္စည်းစွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ပေးသည်။

ထို့အပြင်၊ သတ္တုအော်ဂဲနစ် ဓာတုအငွေ့ပျံခြင်း (MOCVD) လုပ်ငန်းစဉ်တွင် TaC အပေါ်ယံပိုင်း၏ မြင့်မားသော အပူချိန်ခံနိုင်ရည်ရှိမှုနှင့် အပူစီးကူးမှုတို့နှင့်အတူ ပေါင်းစပ်ထားသော TaC Coating Heater ကို တုံ့ပြန်မှုဓာတ်ငွေ့ကို အပူပေးရန်အတွက် များသောအားဖြင့် အသုံးပြုကြပြီး တူညီသောအပူဖြန့်ဖြူးပေးခြင်းဖြင့် ၎င်းကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။ ၎င်းသည် အလွှာမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ ဓာတုဗေဒတုံ့ပြန်မှုဖြစ်ပြီး၊ ထို့ကြောင့် epitaxial အလွှာ၏ညီညွှတ်မှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေပြီး အရည်အသွေးမြင့်ဖလင်တစ်ချပ်ကို ဖြစ်ပေါ်စေသည်။

TaC Coating Heater ထုတ်ကုန်များတွင် စက်မှုလုပ်ငန်းခေါင်းဆောင်တစ်ဦးအနေဖြင့် VeTek Semiconducto သည် ထုတ်ကုန်စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်ခြင်းဝန်ဆောင်မှုများနှင့် ကျေနပ်လောက်သော ထုတ်ကုန်စျေးနှုန်းများကို အမြဲပံ့ပိုးပေးပါသည်။ သင်၏ သီးခြားလိုအပ်ချက်များသည် မည်သို့ပင်ရှိစေ၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် သင်၏ TaC Coating Heater လိုအပ်ချက်အတွက် အကောင်းဆုံးဖြေရှင်းချက်နှင့် ကိုက်ညီပြီး သင်၏ ဆွေးနွေးတိုင်ပင်မှုကို အချိန်မရွေး စောင့်မျှော်နေပါသည်။

TaC Coating Heater ၏ အခြေခံ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ

TaC coating ၏ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ
သိပ်သည်းမှု	14.3 (g/cm³)
တိကျသောထုတ်လွှတ်မှု	0.3
အပူချဲ့ကိန်း	6.3 10-6/K
မာကျောမှု (HK)	2000 HK
ခုခံမှု	1×10-5 Ohm*cm
အပူတည်ငြိမ်မှု	<2500 ℃
Graphite အရွယ်အစား ပြောင်းလဲခြင်း။	-10~20um
အပေါ်ယံအထူ	≥20um ပုံမှန်တန်ဖိုး (35um±10um)