VeTek Semiconductor သည် တရုတ်နိုင်ငံရှိ SiN Substrate ထုတ်ကုန်များကို ထိပ်တန်းထုတ်လုပ်သူနှင့် တင်သွင်းသူဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ Silicon Nitride အလွှာသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူစီးကူးမှု၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတုတည်ငြိမ်မှုနှင့် ချေးခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အစွမ်းထက်သော အစွမ်းသတ္တိရှိသောကြောင့် ၎င်းကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာအသုံးပြုမှုများအတွက် စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောပစ္စည်းဖြစ်လာစေသည်။ VeTekSemi SiN substrate သည် semiconductor processing နယ်ပယ်တွင် နောက်ဆုံးပေါ်နည်းပညာမှ သင့်အား အကျိုးကျေးဇူးရရှိကြောင်း သေချာစေသည်၊ တင်းကျပ်သော အရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှုနှင့် သင်၏ နောက်ထပ်တိုင်ပင်ဆွေးနွေးမှုကို ကြိုဆိုပါသည်။
VeTek Semiconductor SiN အလွှာသည် အဆင့်မြင့်သည်။ကြွေထည်ပစ္စည်း၎င်းသည် ၎င်း၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ၊ လျှပ်စစ်နှင့် အပူဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများအတွက် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အာရုံစိုက်လာခဲ့သည်။ ဒီကြွေအလွှာဆီလီကွန် နှင့် နိုက်ထရိုဂျင်အက်တမ်များဖြင့် ပြုလုပ်ထားကာ ထူးခြားသော ခိုင်ခံ့မှု၊ တာရှည်ခံမှုနှင့် အပူခံနိုင်ရည်တို့ကို ပြသထားသည်။ SiN substrates များသည် semiconductor devices များကဲ့သို့သော စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် application များတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပြီး ၎င်းတို့၏ ဂုဏ်သတ္တိများသည် ပေါင်းစပ်ဆားကစ်များ (ICs)၊ အာရုံခံကိရိယာများ၏ ထိရောက်မှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို သိသာထင်ရှားစွာ တိုးတက်စေပါသည်။မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်စက်မှုစနစ် (MEMS).
SiN သည် ထုတ်ကုန်အင်္ဂါရပ်များဖြစ်သည်။:
အထူးကောင်းမွန်သောအပူကူးယူမှု- အပူပိုင်းစီမံခန့်ခွဲမှုသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာကိရိယာများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်တွင် အရေးပါသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ SiN ကြွေပြား၏အပူစီးကူးမှုသည် 130 W/m·K အထိမြင့်မားပြီး အီလက်ထရွန်းနစ်အစိတ်အပိုင်းများမှ အပူများကို ထိရောက်စွာချေဖျက်နိုင်ပြီး အပူလွန်ကဲခြင်းမှကာကွယ်နိုင်သောကြောင့် စက်၏ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းကို တိုးမြှင့်ပေးပါသည်။
ဓာတုဗေဒတည်ငြိမ်မှုနှင့်ချေးခံနိုင်ရည်: ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ ချေးယူမှုကို အလွန်ပြင်းထန်စွာ ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ဓာတုပစ္စည်းများ သို့မဟုတ် အပူချိန်လွန်ကဲသော ပတ်ဝန်းကျင်များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အထူးသင့်လျော်ပါသည်။ အဆိပ်ဓာတ်ငွေ့များ၊ အက်ဆစ်နှင့် အယ်ကာလီများရှိသော ပတ်ဝန်းကျင်တွင်ပင်၊ SiN အလွှာများသည် ၎င်းတို့၏ တည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာ ခိုင်မာမှုကို ထိန်းသိမ်းထားပြီး စက်မှုလုပ်ငန်းသုံးအတွက် ရေရှည်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို အာမခံပါသည်။
မြင့်မားသောအပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်- SiN အလွှာများသည် အပူဒဏ် သို့မဟုတ် ကွဲအက်ခြင်းမရှိဘဲ အပူချိန် 1200°C အထိ လျင်မြန်သောပြောင်းလဲမှုများကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ ရုတ်တရက် အပူချိန်ပြောင်းလဲမှုကြောင့် စိန်ခေါ်လေ့ရှိသည့် ပါဝါအီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်းများနှင့် အပူချိန်မြင့်အာရုံခံကိရိယာများကဲ့သို့သော နယ်ပယ်များတွင် ဤပိုင်ဆိုင်မှုသည် အရေးကြီးပါသည်။
မြင့်မားသောခွန်အားနှင့်ခိုင်မာမှု: အခြားကြွေထည်ပစ္စည်းများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက compressive strength သည်SiN ကြွေလွှာ600 MPa သို့ရောက်ရှိနိုင်ပြီး အလွန်မာကျောမှုကိုပြသသည်။ ၎င်းသည် အက်ကွဲအက်ကွဲခြင်းကို ထိရောက်စွာ ခုခံနိုင်ပြီး မြင့်မားသော ဖိအားနှင့် တိကျစွာလုပ်ဆောင်သော ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် တည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာ ခိုင်မာမှုကို ထိန်းသိမ်းနိုင်စေကာ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ တည်ငြိမ်မှုကို သေချာစေသည်။
ဆီလီကွန်/ဆီလီကွန်-နိုက်ထရိတ် (Si/SiN) TEM ထုတ်လုပ်ခြင်းဆိုင်ရာ ခြုံငုံသုံးသပ်ချက်
VeTek Semiconductor Silicon Nitride (SiN) အလွှာသည် ၎င်း၏ ကောင်းမွန်သော ထုတ်ကုန်ဂုဏ်သတ္တိများကြောင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ငန်းနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် အဓိကပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်လာသည်။ အထူးသဖြင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာများ၊ MEMS၊ optoelectronics နှင့် ပါဝါအီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်းနယ်ပယ်များတွင် SiN သည် အနာဂတ်အီလက်ထရွန်းနစ်နည်းပညာ၏ အရေးကြီးသောအုတ်မြစ်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးကို မောင်းနှင်ပေးပါသည်။
VeTekSemi SiN Substrate ထုတ်ကုန်အရောင်းဆိုင်များ