SiC coating ALD susceptor

VeTek SemiconductorSiC coating ALD susceptorအက်တမ်အလွှာ အပ်နှံမှုတွင် အရေးပါသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ALD) လုပ်ငန်းစဉ်။ ၎င်း၏တိကျသောအပူချိန်ထိန်းချုပ်မှု၊ တူညီသောဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးမှု၊ မြင့်မားသောဓာတုခံနိုင်ရည်နှင့်အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူစီးကူးမှုတို့သည်ဖလင်စုဆောင်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏တူညီမှုနှင့်အရည်အသွေးမြင့်မားမှုကိုသေချာစေသည်။ သင်ပိုမိုသိရှိလိုပါက၊ သင်သည်ကျွန်ုပ်တို့ကိုချက်ချင်းတိုင်ပင်နိုင်ပြီးကျွန်ုပ်တို့သည်သင့်အားအချိန်မီဖြေကြားပေးပါမည်။

တိကျသောအပူချိန်ထိန်းချုပ်မှု:

SiC coating ALD susceptor သည် အများအားဖြင့် တိကျမှုမြင့်မားသော အပူချိန်ထိန်းစနစ် ရှိသည်။ ဖလင်၏ တူညီမှုနှင့် အရည်အသွေးကို သေချာစေရန်အတွက် အရေးကြီးသောအချက်မှာ အစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တစ်လျှောက် တူညီသောအပူချိန်ပတ်ဝန်းကျင်ကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်သည်။

တူညီသောဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူး:

SiC coating ALD susceptor ၏ အကောင်းဆုံး ဒီဇိုင်းသည် ALD စုဆောင်းခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း ဓာတ်ငွေ့များ တစ်ပြေးညီ ဖြန့်ဖြူးမှုကို သေချာစေသည်။ ၎င်း၏ဖွဲ့စည်းပုံတွင် wafer မျက်နှာပြင်တစ်ခုလုံးတွင် ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့များ တစ်ပြေးညီ လွှမ်းခြုံနိုင်စေရန် လှည့်ပတ်ခြင်း သို့မဟုတ် ရွေ့လျားသည့် အစိတ်အပိုင်းများစွာ ပါဝင်ပါသည်။

မြင့်မားသောဓာတုခုခံမှု:

ALD လုပ်ငန်းစဉ်တွင် ဓာတုဓာတ်ငွေ့မျိုးစုံပါဝင်သောကြောင့် SiC coating ALD susceptor ကို များသောအားဖြင့် ချေးခံနိုင်ရည်ရှိသောပစ္စည်းများ (ဥပမာ- ပလက်တီနမ်၊ ကြွေထည်များ သို့မဟုတ် သန့်စင်မှုမြင့်မားသော quartz) ဖြင့်ပြုလုပ်ထားပြီး ဓာတုဓာတ်ငွေ့များတိုက်စားမှုနှင့် အပူချိန်မြင့်မားသောပတ်ဝန်းကျင်၏လွှမ်းမိုးမှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

အထူးကောင်းမွန်သောအပူကူးယူမှု:

အပူကို ထိထိရောက်ရောက် သယ်ဆောင်ပြီး တည်ငြိမ်သော သိုလှောင်မှု အပူချိန်ကို ထိန်းသိမ်းရန်အတွက် SiC coating ALD susceptors များသည် များသောအားဖြင့် မြင့်မားသော အပူစီးကူးနိုင်သော ပစ္စည်းများကို အသုံးပြုကြသည်။ ၎င်းသည် ဒေသတွင်း အပူလွန်ကဲမှုနှင့် မညီညာသော အစစ်ခံမှုကို ရှောင်ရှားရန် ကူညီပေးသည်။

CVD SiC coating ၏ အခြေခံ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ:

ထုတ်လုပ်ရေးဆိုင်များ:

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ချစ်ပ်စ် epitaxy လုပ်ငန်းကွင်းဆက်၏ ခြုံငုံသုံးသပ်ချက်：