Isostatic Graphite Crucible

VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း Isostatic Graphite Crucible ကို ပုံမှန်အားဖြင့် သန့်စင်မြင့်မားသော ဂရပ်ဖိုက်ပစ္စည်းများမှ ဖန်တီးသည်။ ဤဂရပ်ဖိုက်များသည် ထူးထူးခြားခြား အပူတည်ငြိမ်မှု၊ ဓာတုတိုက်စားမှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန်နှင့် အပူချဲ့ထွင်မှုဂုဏ်သတ္တိများကို ပြသရန် တီထွင်ဖန်တီးထားသည်။VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း Isostatic Graphite Crucible ဖွဲ့စည်းမှုသည် အပူချိန်မြင့်မားသော လုပ်ဆောင်မှုအတွင်း ကြုံတွေ့ရသည့် ပြင်းထန်သောအခြေအနေများကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် သေချာစေသည်။

Isostatic Graphite Crucible သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်များ၏ တောင်းဆိုမှု အခြေအနေများကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် တိကျသော အင်ဂျင်နီယာ ဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့သည် တူညီသော အပူဖြန့်ဖြူးမှုနှင့် ကြည်လင်ကြီးထွားမှုကို လွယ်ကူချောမွေ့စေရန် ချောမွေ့သောအတွင်းပိုင်းမျက်နှာပြင်နှင့်အတူ ကြံ့ခိုင်၊ ဆလင်ဒါပုံသဏ္ဍာန်ကို ပါရှိသည်။ VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း Isostatic Graphite Crucible ၏ ဒီဇိုင်းသည် လုပ်ဆောင်နေစဉ်အတွင်း တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကို ညစ်ညမ်းစေမည့် အညစ်အကြေးအန္တရာယ်ကို လျှော့ချပေးသည်။

ဒီအချိန်မှာ ငါတို့ရဲ့သုံးပွင့်ချပ် Graphite Crucibleကောင်းမွန်သောအပူစီးကူးမှုပါ ၀ င်သည်၊ ထိရောက်သောအပူလွှဲပြောင်းမှုကိုပေးသည်။ပုံဆောင်ခဲဖြစ်စဉ်. ဤပိုင်ဆိုင်မှုသည် မီးစင်အတွင်း၌ တစ်သမတ်တည်း အပူချိန်ဖြန့်ဖြူးမှုကို သေချာစေပြီး တူညီသောပုံဆောင်ခဲများ ကြီးထွားမှုကို မြှင့်တင်ပေးပြီး ထုတ်ကုန်အရည်အသွေးကို ထိခိုက်စေနိုင်သည့် အပူရှိအရောင်အဆင်းများကို လျှော့ချပေးသည်။

ထို့အပြင်၊ Isostatic Graphite Crucibles များသည် Czochralski နှင့် float-zone နည်းလမ်းများကဲ့သို့သော နည်းစနစ်များမှတစ်ဆင့် monocrystalline silicon ingots များ ကြီးထွားမှုအပါအဝင် အမျိုးမျိုးသော semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် တွင်တွင်ကျယ်ကျယ်အသုံးပြုသည်ကို တွေ့ရှိရသည်။ ဒါတွေကြည်လင်ထွားgraphite crucibles များ၏တိကျသောဖွဲ့စည်းမှုအတွက်တည်ငြိမ်ပြီးထိန်းချုပ်ထားသောပတ်ဝန်းကျင်ကိုပေးဆောင်သည်။semiconductor အရည်ကြည်များ ကြီးထွားမှုအီလက်ထရွန်နစ် စက်ပစ္စည်းများတွင် အသုံးပြုသည့် အရည်အသွေးမြင့် ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အရေးကြီးပါသည်။

ရူပဂုဏ်သတ္တိIsostatic Graphite Crucible:

VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း Isostatic Graphite Crucible ဆိုင်များ-