CVD TAC Coating

VeTek Semiconductor သည် တရုတ်နိုင်ငံရှိ CVD TAC Coating ၏ ဦးဆောင်ထုတ်လုပ်သူ၊ တီထွင်သူနှင့် ခေါင်းဆောင်တစ်ဦးဖြစ်သည်။ နှစ်များစွာကြာအောင် ကျွန်ုပ်တို့သည် CVD TaC coating cover၊ CVD TaC Coating Ring၊ CVD TaC Coating carrier စသည်တို့ကဲ့သို့ အမျိုးမျိုးသော CVD TAC Coating ထုတ်ကုန်များကို အာရုံစိုက်လာပါသည်။ VeTek Semiconductor သည် စိတ်ကြိုက်ထုတ်ကုန်ဝန်ဆောင်မှုများနှင့် ကျေနပ်လောက်သော ထုတ်ကုန်စျေးနှုန်းများကို ပံ့ပိုးပေးထားပြီး သင်၏ နောက်ထပ်မျှော်လင့်ချက် တိုင်ပင်ဆွေးနွေးခြင်း။

စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ကုန်ပစ္စည်းအကြောင်းအရာ

CVD TaC Coating (ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ရှိမှု တန်တလမ်ကာဗိုက်အပေါ်ယံပိုင်း) သည် တန်တလမ်ကာဗိုက် (TaC) ဖြင့် အဓိကဖွဲ့စည်းထားသည့် အပေါ်ယံထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်သည်။ TaC coating သည် အလွန်မြင့်မားသော မာကျောမှု၊ ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ အပူချိန်မြင့်မားမှုတို့ကို ခံနိုင်ရည်ရှိသောကြောင့် ၎င်းသည် အဓိကပစ္စည်းများအစိတ်အပိုင်းများကို ကာကွယ်ရန်နှင့် လုပ်ငန်းစဉ်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေသည့် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် semiconductor processing တွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။

CVD TaC Coating ထုတ်ကုန်များကို တုံ့ပြန်မှုအခန်းများ၊ wafer carriers များနှင့် etching equipment များတွင် အများအားဖြင့် အသုံးပြုကြပြီး ၎င်းတို့တွင် အောက်ပါ အဓိကအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။

CVD TaC အပေါ်ယံပိုင်းကို တုံ့ပြန်မှုအခန်းများဖြစ်သည့် အလွှာများ၊ နံရံပြားများနှင့် အပူပေးသည့်ဒြပ်စင်များကဲ့သို့သော အတွင်းပိုင်းအစိတ်အပိုင်းများအတွက် အသုံးပြုလေ့ရှိသည်။ ၎င်း၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူချိန်ခံနိုင်ရည်ဖြင့် ပေါင်းစပ်ထားသောကြောင့် မြင့်မားသောအပူချိန်၊ အဆိပ်ဓာတ်ငွေ့များနှင့် ပလာစမာတို့၏ တိုက်စားမှုကို ထိရောက်စွာ တွန်းလှန်နိုင်ကာ စက်ကိရိယာများ၏ ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းကို ထိရောက်စွာ သက်တမ်းတိုးစေပြီး လုပ်ငန်းစဉ်၏ တည်ငြိမ်မှုနှင့် ထုတ်ကုန်ထုတ်လုပ်မှု၏ သန့်ရှင်းမှုကို အာမခံပါသည်။

ထို့အပြင်၊ TaC-coated wafer carriers (ဥပမာ quartz လှေများ၊ တန်ဆာပလာများ စသည်တို့) သည် အပူဒဏ်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး chemical corrosion resistance လည်းရှိသည်။ wafer carrier သည် မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် wafer အတွက် ယုံကြည်စိတ်ချရသော အထောက်အပံ့ကို ပေးစွမ်းနိုင်ပြီး wafer ညစ်ညမ်းမှုနှင့် ပုံပျက်ခြင်းများကို ကာကွယ်နိုင်ပြီး အလုံးစုံ ချစ်ပ်အထွက်နှုန်းကို တိုးတက်စေပါသည်။

ထို့အပြင်၊ VeTek Semiconductor ၏ TaC coating ကို plasma etchers၊ chemical vapor deposition systems ကဲ့သို့သော အမျိုးမျိုးသော etching နှင့် thin film deposition equipment များတွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုပါသည်။ ဤ processing စနစ်များတွင် CVD TAC Coating သည် စွမ်းအင်မြင့်မားသော အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲချခြင်းနှင့် ပြင်းထန်သော ဓာတုတုံ့ပြန်မှုများကို ခံနိုင်ရည်ရှိပါသည်။ ထို့ကြောင့် လုပ်ငန်းစဉ်၏ တိကျမှုနှင့် ထပ်တလဲလဲဖြစ်နိုင်မှုကို အာမခံပါသည်။

မင်းရဲ့ သီးခြားလိုအပ်ချက်တွေက ဘယ်လိုပဲဖြစ်နေပါစေ မင်းရဲ့ CVD TAC Coating လိုအပ်ချက်တွေအတွက် အကောင်းဆုံးဖြေရှင်းချက်နဲ့ မင်းရဲ့တိုင်ပင်ဆွေးနွေးမှုကို အချိန်မရွေး စောင့်မျှော်နေမှာပါ။

CVD TAC Coating ၏ အခြေခံ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ

TaC coating ၏ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ
သိပ်သည်းမှု	14.3 (g/cm³)
တိကျသောထုတ်လွှတ်မှု	0.3
အပူတိုးချဲ့ကိန်း	6.3 10-6/K
မာကျောမှု (HK)	2000 HK
ခုခံမှု	1×10-5 Ohm*cm
အပူတည်ငြိမ်မှု	<2500 ℃
Graphite အရွယ်အစား ပြောင်းလဲခြင်း။	-10~20um
အပေါ်ယံအထူ	≥20um ပုံမှန်တန်ဖိုး (35um±10um)