ALD Fused Quartz Pedestal

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်အတွက် အဓိက အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်နေပါသည်။Quartz လှေကိုင်ရန်အသုံးပြုသည်။wafer. Fused Quartz Pedestal သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စက်ပစ္စည်းများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို တိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်စေသည့် တည်ငြိမ်သောအပူချိန်ကို ထိန်းသိမ်းထားခြင်းဖြင့် တစ်ပြေးညီဖလင်အစစ်ခံမှုကို ရရှိစေရန် ကူညီပေးပါသည်။ ထို့အပြင်၊ Quartz Pedestal သည် လုပ်ငန်းစဉ်ခန်းအတွင်း အပူနှင့်အလင်းကို တစ်ပြေးညီခွဲဝေပေးကြောင်း သေချာစေပြီး အစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ အလုံးစုံအရည်အသွေးကို တိုးတက်စေသည်။

ALD Fused Quartz Pedestal Material ၏ အားသာချက်များ

မြင့်မားသောအပူချိန်ခုခံမှု: ပေါင်းထားသော quartz အောက်ခံခုံ၏ပျော့ပြောင်းသည့်နေရာသည် 1730°C ခန့်မြင့်ပြီး မြင့်မားသောအပူချိန် 1100°C မှ 1250°C အထိ ကြာရှည်ခံနိုင်ကာ အပူချိန်လွန်ကဲသောပတ်ဝန်းကျင်နှင့် 1450°C အထိ ထိတွေ့နိုင်သည်။ အချိန်တိုအတွင်း

အလွန်ကောင်းမွန်သော Corrosion Resistance: Fused Quartz သည် ဟိုက်ဒရိုဖလိုရစ်အက်ဆစ်မှလွဲ၍ အက်ဆစ်အားလုံးနီးပါးအတွက် ဓာတုဗေဒနည်းအရ အလွန်အင်မတန်ပြင်းထန်သည်။ ၎င်း၏အက်ဆစ်ခံနိုင်ရည်သည်ကြွေထည်များထက်အဆ 30 နှင့် stainless steel ထက်အဆ 150 ပိုမြင့်မားသည်။ Fused Quartz သည် မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် ဓာတုဗေဒအရ တုနှိုင်းမယှဉ်နိုင်သောကြောင့် ရှုပ်ထွေးသောဓာတုဖြစ်စဉ်များအတွက် စံပြပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။

အပူတည်ငြိမ်မှု: Fused Quartz Pedestal ပစ္စည်း၏ အဓိကအင်္ဂါရပ်မှာ အပူချဲ့ထွင်ခြင်း၏ အလွန်နိမ့်ကျသော ကိန်းဂဏန်းဖြစ်သည်။ ဆိုလိုသည်မှာ ကွဲအက်ခြင်းမရှိဘဲ သိသိသာသာ အပူချိန်အတက်အကျများကို အလွယ်တကူ ကိုင်တွယ်ဖြေရှင်းနိုင်သည်ဟု ဆိုလိုသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ ပေါင်းစပ်ထားသော ဆီလီကာ Quartz သည် 1100°C သို့ လျင်မြန်စွာ အပူပေးပြီး ပျက်စီးခြင်းမရှိဘဲ ရေအေးထဲတွင် တိုက်ရိုက်နှစ်မြှုပ်နိုင်ပြီး၊ စိတ်ဖိစီးမှုမြင့်မားသော ထုတ်လုပ်မှုအခြေအနေများတွင် အရေးကြီးသောအင်္ဂါရပ်တစ်ခုဖြစ်သည်။

တင်းကျပ်သောကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်: ပေါင်းစပ်ထားသော ဆီလီကာခြေနင်းများ၏ ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်သည် အရည်အသွေးမြင့် စံနှုန်းများကို တင်းကြပ်စွာ လိုက်နာပါသည်။ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်သည် အတန်း 10,000 သန့်စင်ခန်းပတ်ဝန်းကျင်တွင် ပြီးမြောက်လေ့ရှိသည့် ပူပြင်းသောဖွဲ့စည်းခြင်းနှင့် ဂဟေဆော်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များကို အသုံးပြုသည်။ ထို့နောက်၊ ပေါင်းစပ်ထားသော quartz glass အောက်ခံခုံအား အထူးသန့်စင်သောရေ (18 MΩ) ဖြင့် သေချာစွာ သန့်စင်ပြီး ထုတ်ကုန်၏ သန့်ရှင်းမှုနှင့် အကောင်းဆုံးစွမ်းဆောင်ရည်ကို သေချာစေရန်။ အချောထည်တစ်ခုစီကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်း၏ မြင့်မားသောစံချိန်စံညွှန်းများနှင့်ကိုက်ညီစေရန် အတန်း 1,000 နှင့်အထက် သန့်စင်ခန်းတွင် တင်းကျပ်စွာစစ်ဆေးခြင်း၊ သန့်စင်ပြီး ထုပ်ပိုးထားသည်။

မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော silica quartz ပစ္စည်း

VeTeksemi ALD Fused Quartz Pedestal သည် အပူနှင့် အလင်းရောင်ကို ထိထိရောက်ရောက် ခွဲထုတ်ရန် မြင့်မားသော သန့်စင်မှုရှိသော ရောင်စုံ quartz ပစ္စည်းကို အသုံးပြုထားသည်။ ၎င်း၏ အစွမ်းထက်သော အပူအကာအကွယ်ပေးခြင်းနှင့် အလင်းအကာအကွယ်ပေးခြင်း ဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းကို လုပ်ငန်းစဉ်ခန်းအတွင်း တူညီသောအပူချိန်ဖြန့်ဖြူးမှုကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်ကာ ပါးလွှာညီညွှတ်မှုနှင့် တစ်သမတ်တည်းဖြစ်မှုတို့ကို သေချာစေသည်။ရုပ်ရှင်အစစ်ခံခြင်း။wafer မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်။

လျှောက်လွှာနယ်ပယ်များ

Fused Quartz ခြေနင်းများကို ၎င်းတို့၏ ထူးချွန်သောစွမ်းဆောင်ရည်ကြောင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းနယ်ပယ်များစွာတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုကြသည်။ ၌atomic layer deposition (ALD) လုပ်ငန်းစဉ်၎င်းသည် ရုပ်ရှင်ကြီးထွားမှုကို တိကျသောထိန်းချုပ်မှုကို ပံ့ပိုးပေးပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာကိရိယာများ၏ တိုးတက်မှုကို သေချာစေသည်။ ၌low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) လုပ်ငန်းစဉ်မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော quartz Pedestal ၏ အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် အလင်းကာကွယ်နိုင်မှုစွမ်းရည်သည် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များ၏ တစ်ပြေးညီ အစစ်ခံမှုအတွက် အာမခံချက်ပေးစွမ်းနိုင်ပြီး ကိရိယာ၏စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် အထွက်နှုန်းကို တိုးတက်စေသည်။

ထို့အပြင်၊ diffusion wafer လုပ်ငန်းစဉ်တွင်၊ Fused Quartz Pedestal ၏မြင့်မားသောအပူချိန်ခံနိုင်ရည်နှင့် chemical corrosion resistance သည် semiconductor material doping လုပ်ငန်းစဉ်၏ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် ညီညွတ်မှုကိုသေချာစေသည်။ ဤသော့ချက်လုပ်ငန်းစဉ်များသည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာများ၏ လျှပ်စစ်စွမ်းဆောင်ရည်ကို ဆုံးဖြတ်ကြပြီး အရည်အသွေးမြင့် Fused Quartz ပစ္စည်းများသည် အဆိုပါလုပ်ငန်းစဉ်များ၏ အကောင်းဆုံးရလဒ်များရရှိရန် မရှိမဖြစ်အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal ဆိုင်များ